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光刻膠烘箱技術(shù)詳解

更新時(shí)間:2025-05-19      點(diǎn)擊次數(shù):339

光刻膠烘箱是半導(dǎo)體制造、光電子器件加工中的關(guān)鍵設(shè)備,愛義信工業(yè)科技用于光刻膠(Photoresist)的 前烘(Pre-Bake)后烘(Post-Bake) 工藝,其核心功能是控制膠膜的溶劑揮發(fā)、應(yīng)力釋放及化學(xué)鍵合,直接影響光刻圖形的分辨率和良率。

一、光刻膠烘箱的核心技術(shù)要求

1. 溫度控制

2. 潔凈度

3. 氣氛控制

4. 工藝適配性

四、常見問題與解決方案

問題1:光刻膠烘烤后出現(xiàn)龜裂(Cracking)

問題2:膠膜厚度不均勻

問題3:顆粒污染

總結(jié)

愛義信工業(yè)科技光刻膠烘箱的性能直接決定光刻工藝的線寬控制(CD Uniformity)和缺陷率。選型時(shí)需根據(jù) 膠型(化學(xué)放大型/傳統(tǒng)型)、基板尺寸、產(chǎn)能需求 匹配設(shè)備,并嚴(yán)格管控潔凈度與溫度穩(wěn)定性。對于EUV等先進(jìn)制程,建議選擇帶 多區(qū)獨(dú)立控溫 和 原位監(jiān)測 的型號(hào)。



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